<?xml version="1.0" encoding="ISO-8859-1"?><article xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance">
<front>
<journal-meta>
<journal-id>0254-0770</journal-id>
<journal-title><![CDATA[Revista Técnica de la Facultad de Ingeniería Universidad del Zulia]]></journal-title>
<abbrev-journal-title><![CDATA[Rev. Téc. Ing. Univ. Zulia]]></abbrev-journal-title>
<issn>0254-0770</issn>
<publisher>
<publisher-name><![CDATA[Facultad de Ingeniería, Universidad del Zulia]]></publisher-name>
</publisher>
</journal-meta>
<article-meta>
<article-id>S0254-07702008000100009</article-id>
<title-group>
<article-title xml:lang="en"><![CDATA[Electrochemical growth of hydrous iridium (III) and (IV) oxide on platinum susbtrate]]></article-title>
<article-title xml:lang="es"><![CDATA[Crecimiento electroquímico de óxidos hidratados de iridio (III) y (IV) sobre platino]]></article-title>
</title-group>
<contrib-group>
<contrib contrib-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Méndez G]]></surname>
<given-names><![CDATA[María Eliana]]></given-names>
</name>
<xref ref-type="aff" rid="A01"/>
</contrib>
<contrib contrib-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Márquez]]></surname>
<given-names><![CDATA[Jairo]]></given-names>
</name>
<xref ref-type="aff" rid="A02"/>
</contrib>
<contrib contrib-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Briceño]]></surname>
<given-names><![CDATA[Richard]]></given-names>
</name>
<xref ref-type="aff" rid="A03"/>
</contrib>
</contrib-group>
<aff id="A01">
<institution><![CDATA[,Facultad de Ingeniería Escuela de Ingeniería Química ]]></institution>
<addr-line><![CDATA[ ]]></addr-line>
</aff>
<aff id="A02">
<institution><![CDATA[,Facultad de Ciencias Departamento de Química ]]></institution>
<addr-line><![CDATA[ ]]></addr-line>
</aff>
<aff id="A03">
<institution><![CDATA[,Universidad de Los Andes Facultad de Ingeniería Escuela de Ingeniería Mecánica]]></institution>
<addr-line><![CDATA[Mérida ]]></addr-line>
<country>Venezuela</country>
</aff>
<pub-date pub-type="pub">
<day>00</day>
<month>04</month>
<year>2008</year>
</pub-date>
<pub-date pub-type="epub">
<day>00</day>
<month>04</month>
<year>2008</year>
</pub-date>
<volume>31</volume>
<numero>1</numero>
<fpage>71</fpage>
<lpage>78</lpage>
<copyright-statement/>
<copyright-year/>
<self-uri xlink:href="http://ve.scielo.org/scielo.php?script=sci_arttext&amp;pid=S0254-07702008000100009&amp;lng=en&amp;nrm=iso"></self-uri><self-uri xlink:href="http://ve.scielo.org/scielo.php?script=sci_abstract&amp;pid=S0254-07702008000100009&amp;lng=en&amp;nrm=iso"></self-uri><self-uri xlink:href="http://ve.scielo.org/scielo.php?script=sci_pdf&amp;pid=S0254-07702008000100009&amp;lng=en&amp;nrm=iso"></self-uri><abstract abstract-type="short" xml:lang="en"><p><![CDATA[It is proposed a novel procedure for the electrochemical growth of iridium (III) and (IV) oxides on platinum substrate from iridium chloride saturated solution at pH 1. Iridium oxides (green and colorless) were obtained with this new technique by cyclic voltammetry in the saturated solution of iridium previously electrodeposited on platinum at constant potential. Unlike other techniques here, the coating fraction (µm²oxide/ µm²surface) is measure using a metallic microscope coupled with an image analyzer. The evolution of experimental coating fraction values with time suggested the existence of a progressive nucleation mechanism. Iridium oxides are slowly deposited in a layer by layer mode. The time and coating fraction were correlated to estimate the optimal time for metallic iridium deposition as well as the optimal time for iridium oxidation. This values were 5000 s and 50 cycles (40 mV/s between -250 mV and 1450 mV), respectively. The electrocatalytic activity on the oxygen reduction was observed during the iridium oxidation process. Future studies must be focused on proving this property.]]></p></abstract>
<abstract abstract-type="short" xml:lang="es"><p><![CDATA[Se electrodepositaron óxidos de iridio hidratados sobre platino usando un procedimiento novedoso. Para obtener el electrocrecimiento se empleó una solución saturada de cloruro de iridio a pH 1. Los óxidos de iridio (de color verde y transparentes) se obtuvieron luego de la electrooxidación por polarización cíclica en la solución saturada del iridio metálico predepositado potenciostáticamente. La cantidad de material depositado se determinó en términos de fracción de cobertura (µm²de óxido/ µm²superficie) utilizando un analizador de imágenes acoplado a un microscopio metalográfico, hallándose que el crecimiento del iridio metálico sobre platino ocurre mediante un mecanismo de nucleación progresiva a muy baja velocidad y se caracteriza por la formación de capas sobre capas. Se plantearon además correlaciones para estimar tanto el tiempo óptimo de deposición de iridio metálico como el de oxidación, resultando 5000 s y 50 ciclos (entre -250 mV y 1450 mV) respectivamente. A partir del mismo proceso de electroxidación del iridio, se comprobó el poder electrocatalítico de los óxidos de iridio (III) y (IV) en la reducción del oxígeno. A futuro se propone el uso de otras técnicas para la evaluación de esta propiedad.]]></p></abstract>
<kwd-group>
<kwd lng="en"><![CDATA[Iridium electrodeposits on platinum]]></kwd>
<kwd lng="en"><![CDATA[hydrated iridium oxides]]></kwd>
<kwd lng="en"><![CDATA[electrochemical growth of iridium]]></kwd>
<kwd lng="es"><![CDATA[Óxidos de iridio hidratados]]></kwd>
<kwd lng="es"><![CDATA[electrodeposición sobre platino]]></kwd>
</kwd-group>
</article-meta>
</front><body><![CDATA[  <BASEFONT SIZE="3">     <P align="CENTER" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"> <B><font color="#1f1a17" face="Verdana" size="3">Electrochemical growth of hydrous iridium (III) and (IV) oxide on platinum  susbtrate</font></B></P>     <P align="CENTER" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><font size="2" face="Verdana"><B><FONT COLOR="#1f1a17"> Mar&#237;a Eliana M&#233;ndez G.</FONT></B><FONT COLOR="#1f1a17"><SUP><B>1</B></SUP><B>, Jairo M&#225;rquez</B><SUP><B>2</B></SUP><B> y Richard Brice&#241;o</B><SUP><B>3</B></SUP></FONT></font></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><font size="2" face="Verdana"><SUP><FONT COLOR="#1f1a17">1</FONT></SUP><FONT COLOR="#1f1a17" FACE="Bookman" SIZE="2"><sup> </sup></FONT></font><FONT COLOR="#1f1a17" face="Verdana" SIZE="2">Escuela de Ingenier&#237;a Qu&#237;mica, Facultad de Ingenier&#237;a.</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><font face="Verdana" size="2"><SUP><FONT COLOR="#1f1a17">2</FONT> </SUP> <FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana">Departamento de  Qu&#237;mica, Facultad de Ciencias.</FONT></font></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><font face="Verdana" size="2"><SUP><FONT COLOR="#1f1a17">3</FONT></SUP><FONT COLOR="#1f1a17" face="Verdana"><sup> </sup>Escuela de Ingenier&#237;a Mec&#225;nica, Facultad  de Ingenier&#237;a. Universidad de Los Andes. M&#233;rida, Venezuela. mendezme@ula.ve  0274-2401111 ext. 2141</FONT></font></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"> <B><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Abstract&nbsp; </FONT></B> </P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> It is proposed a novel procedure for the electrochemical growth of iridium  (III) and (IV) oxides on platinum substrate from iridium chloride saturated  solution at pH 1. Iridium oxides (green and colorless) were obtained with  this new technique by cyclic voltammetry in the saturated solution of iridium  previously electrodeposited on platinum at constant potential. Unlike other  techniques here, the coating fraction (&#181;m<FONT COLOR="#1f1a17"><SUP>2</SUP><SUB>oxide</SUB>/ &#181;m<SUP>2</SUP><SUB>surface</SUB>)<B> </B>is measure  using a metallic microscope coupled with an image analyzer. The evolution  of experimental coating fraction values with time suggested the existence  of a progressive nucleation mechanism. Iridium oxides are slowly deposited  in a layer by layer mode. The time and coating fraction were correlated  to estimate the optimal time for metallic iridium deposition as well as  the optimal time for iridium oxidation. This values were 5000 s and 50  cycles (40 mV/s between &#150;250 mV and 1450 mV), respectively. The electrocatalytic  activity on the oxygen reduction was observed during the iridium oxidation  process. Future studies must be focused on proving this property.</FONT></FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> <B>Key words:</B></FONT> <FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana">Iridium electrodeposits on platinum, hydrated iridium oxides, electrochemical  growth of iridium.</FONT></P>     <P align="CENTER" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> <b> Crecimiento electroqu&#237;mico de &#243;xidos hidratados de iridio (III) y (IV) sobre platino</b></FONT></P>     ]]></body>
<body><![CDATA[<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"> <B><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Resumen</FONT></B></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Se electrodepositaron &#243;xidos de iridio hidratados sobre platino usando  un procedimiento novedoso. Para obtener el electrocrecimiento se emple&#243;  una soluci&#243;n saturada de cloruro de iridio a pH 1. Los &#243;xidos de iridio  (de color verde y transparentes) se obtuvieron luego de la electrooxidaci&#243;n  por polarizaci&#243;n c&#237;clica en la soluci&#243;n saturada del iridio met&#225;lico predepositado  potenciost&#225;ticamente. La cantidad de material depositado se determin&#243; en  t&#233;rminos de fracci&#243;n de cobertura (&#181;m<FONT COLOR="#1f1a17"><SUP>2</SUP><SUB>de &#243;xido</SUB>/ &#181;m<SUP>2</SUP><SUB>superficie</SUB>) utilizando  un analizador de im&#225;genes acoplado a un microscopio metalogr&#225;fico, hall&#225;ndose  que el crecimiento del iridio met&#225;lico sobre platino ocurre mediante un  mecanismo de nucleaci&#243;n progresiva a muy baja velocidad y se caracteriza  por la formaci&#243;n de capas sobre capas. Se plantearon adem&#225;s correlaciones  para estimar tanto el tiempo &#243;ptimo de deposici&#243;n de iridio met&#225;lico como  el de oxidaci&#243;n, resultando 5000 s y 50 ciclos (entre &#150;250 mV y 1450 mV)  respectivamente. A partir del mismo proceso de electroxidaci&#243;n del iridio,  se comprob&#243; el poder electrocatal&#237;tico de los &#243;xidos de iridio (III) y  (IV) en la reducci&#243;n del ox&#237;geno. A futuro se propone el uso de otras t&#233;cnicas  para la evaluaci&#243;n de esta propiedad.</FONT></FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"> <B><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Palabras clave:&nbsp;</FONT></B><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana">&#211;xidos de iridio hidratados, electrodeposici&#243;n sobre platino.</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"><b> Recibido:</b> 30-01-06</FONT>&nbsp; <FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"><b>Revisada:</b> 14-01-08</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><B><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana">Introducci&#243;n</FONT></B></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> La electrodeposici&#243;n de iridio met&#225;lico sobre distintos substratos como  n&#237;quel, acero de bajo carbono, carb&#243;n v&#237;treo, oro, platino, entre otros;  ha sido hist&#243;ricamente un procedimiento dif&#237;cil de realizar debido principalmente  a la gran estabilidad de los iones complejos que forma el iridio en soluci&#243;n  y a que estos iones son descargados a menor velocidad que el hidr&#243;geno  presente, sobre todo si las condiciones son &#225;cidas [1], aunque los resultados  mejoran considerablemente si la temperatura de la soluci&#243;n electrol&#237;tica  se incrementa hasta aproximadamente 60&#176;C [2] Aunado a lo anteriormente  citado est&#225; la limitada solubilidad en agua que caracteriza a algunas sales  de iridio [3-4].</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> La finalidad de esta investigaci&#243;n es obtener el iridio en estado oxidado  sobre platino y de acuerdo a los antecedentes esto s&#243;lo puede lograrse  si el iridio met&#225;lico es ciclado repetitivamente entre potenciales muy  cercanos a los de la electr&#243;lisis del agua [2-8] o por electrodeposici&#243;n  potenciodin&#225;mica a partir de una soluci&#243;n de &#243;xido de iridio sobre un substrato  diferente al iridio met&#225;lico, siendo este &#250;ltimo un m&#233;todo atractivo desde  el punto de vista pr&#225;ctico y econ&#243;mico [5]. La preparaci&#243;n de electrodos  modificados es relevante debido a la sinergia entre los componentes del  nuevo material sobre todo en el campo de la cat&#225;lisis qu&#237;mica. Lo novedoso  del procedimiento seleccionado para la preparaci&#243;n del oxido es que incluye  una primera etapa de electrodeposici&#243;n potenciost&#225;tica del iridio met&#225;lico  sobre el substrato, seguida de un proceso oxidativo por voltametr&#237;a c&#237;clica  del iridio predepositado aunado a la formaci&#243;n de &#243;xidos adicionales a  partir del iridio presente en la soluci&#243;n. La presencia del iridio disuelto  en la segunda etapa, previene la disoluci&#243;n del iridio met&#225;lico depositado  inicialmente.</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"> <B><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Parte Experimental</FONT></B></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Se prepar&#243; una soluci&#243;n saturada de tricloruro de iridio (Sigma Chemical  Co.), 0,2 mmol/L cloruro de potasio (Baker Analyzed) y 0,1 mol/L &#225;cido  clorh&#237;drico (36,5-38% p/p, p.e. 1,191 J.T. Baker Analyzed). Se emplearon  electrodos de platino en forma de placa (0,5 cm&#215;0,5 cm) soldados a alambres  de platino de 3 cm de longitud. Los electrodos se ajustaron a un soporte  de alambre de cobre mediante una uni&#243;n de tornillos y fueron recubiertos  por un lado y en el alambre con tefl&#243;n l&#237;quido (Tangit-Henkel). La finalidad  de este procedimiento fue dejar expuesta una superficie de 0,25 cm<FONT COLOR="#1f1a17"><SUP>2</SUP> de  &#225;rea geom&#233;trica con un &#225;rea real determinada experimentalmente de 4 cm<SUP>2</SUP>.  Como electrodo auxiliar se us&#243; una placa de platino. El electrodo de referencia  empleado fue Ag/AgCl no comercial. Una celda de tres compartimientos con  recubrimiento aislante, se utiliz&#243; para los experimentos electroqu&#237;micos.  Los ensayos fueron realizados usando un potenciostato-galvanostato EG&amp;G  modelo 273. Los electrodos de trabajo fueron pulidos con al&#250;mina de 5&#181;m  y 0,05&#181;m usando una m&#225;quina para pulir. Posteriormente fueron enjuagados  con agua desionizada. Para obtener una deposici&#243;n &#243;ptima de &#243;xidos de iridio  sobre el electrodo de platino el procedimiento se realiz&#243; en dos etapas.  En una primera parte, la soluci&#243;n saturada de IrCl<SUB>3</SUB> (mantenida en estufa  a 40&#186;C) se utiliz&#243; para deposiciones potenciost&#225;ticas a &#150;250 mV (vs. Ag/AgCl)  de iridio met&#225;lico durante diferentes tiempos, con la finalidad de estudiar  el efecto del tiempo de deposici&#243;n sobre la cobertura del substrato. Las  primeras etapas de electrocrecimiento del iridio met&#225;lico fueron modeladas  matem&#225;ticamente usando algunas ecuaciones te&#243;ricas adaptadas para este  caso particular y los datos fueron manipulados usando un programa conocido  como Matlab 6.5<SUP>&#174;</SUP>. Finalmente, el electrodo modificado se someti&#243; a ciclos  consecutivos (entre &#150;250 mV y 1425 mV/ vs. Ag/AgCl) en la soluci&#243;n saturada  con iridio con la finalidad de conseguir dep&#243;sitos adicionales y para evitar  la disoluci&#243;n de los existentes. Se evalu&#243; la influencia del n&#250;mero de  ciclos sobre la fracci&#243;n promedio de cobertura. Un m&#233;todo alternativo,  r&#225;pido, econ&#243;mico y confiable para el an&#225;lisis de la cobertura del electrodo  aplica un microscopio metalogr&#225;fico (Axiotech-Zeizz) y un analizador de  im&#225;genes (IA3001-Leco).</FONT></FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"> <B><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Resultados y Discusi&#243;n</FONT></B></P>     ]]></body>
<body><![CDATA[<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"> <B><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Deposici&#243;n de iridio met&#225;lico sobre platino&nbsp; </FONT></B> </P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Debido a la dificultad de los compuestos de iridio para depositarse, la  soluci&#243;n saturada fue precalentada (mantenida en estufa a 40&#176;C) para aumentar  la cantidad de iridio disuelto. Posteriormente se procedi&#243; a la deposici&#243;n  potenciost&#225;tica de iridio met&#225;lico y el resultado fueron peque&#241;as islas  de color negro intenso y gris sobre la superficie de platino (Figura 5.a).  En la <a href="#fig1"> Figura 1</a> se muestra la cronoamperometr&#237;a del proceso. Las fluctuaciones  c&#237;clicas observadas en la corriente evidencian la alteraci&#243;n superficial  que experimenta el platino por el crecimiento de los dep&#243;sitos de iridio  met&#225;lico. Durante esta etapa, ocurre la reducci&#243;n del iridio disuelto a  iridio met&#225;lico acompa&#241;ado por la descarga del hidr&#243;geno presente en la  soluci&#243;n seg&#250;n las reacciones:</FONT></P>     <P align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><a name="fig1"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09fig1.jpg" align="center" width="463" height="233"></a></P>     
<p ALIGN="center"><font face="Verdana" size="2"><font COLOR="#231f20"><b>Figura 1.</b> Cronoamperometría del electrodo de platino en una solución 0,2mmol/L KCl + 0,1 mmol/L</font> <font COLOR="#231f20">HCl saturada con IrCl3 a –250 mV por 1h y 40 min (6000 s).</font></font></p>     <p align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09for1.jpg" align="center" width="327" height="66"></p>     
<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> La respuesta de corriente obtenida representa la contribuci&#243;n de ambas  reacciones (1) y (2) la disminuci&#243;n gradual de la misma corresponde con  la descarga del electrodo y supresi&#243;n de la evoluci&#243;n del hidrogeno por  alteraci&#243;n del equilibrio debido a la acumulaci&#243;n gaseosa. En muchos casos  se ha encontrado una dependencia lineal de la corriente con el tiempo elevado  a una potencia de 3/2 para los tiempos iniciales de un proceso de nucleaci&#243;n  progresiva, tal como se muestra en la <a href="#fig2"> Figura 2</a>, a partir de la pendiente  de recta, puede estimarse la velocidad de nucleaci&#243;n. De esta manera, se  puede inferir que el proceso de cristalizaci&#243;n del iridio met&#225;lico ocurre  aparentemente bajo nucleaci&#243;n progresiva a baja velocidad en comparaci&#243;n  con otros metales electrodepositados, y que paulatinamente se van construyendo  nuevas capas sobre las preexistentes. La formaci&#243;n de la primera monocapa  de iridio met&#225;lico sobre la superficie de platino puede ser simulada a  partir del modelo te&#243;rico para electrocrecimiento de un material sobre  un substrato de la misma naturaleza [9]. Dicho modelo te&#243;rico expresa que:</FONT></P>     <P align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><a name="fig2"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09fig2.jpg" align="center" width="377" height="231"></a></P>     
<p ALIGN="center"><font face="Verdana" size="2"><font COLOR="#231f20"><b>Figura 2.</b> Etapa inicial del transitorio</font> <font COLOR="#231f20">de corriente expresado como i vs. t3/2 electrodo</font> <font COLOR="#231f20">de platino en una solución 0,2mmol/L KCl +</font> <font COLOR="#231f20">0,1 mmol/L HCl saturada con IrCl3 a –250 mV</font> <font COLOR="#231f20">por 1h y 40 min (6000 s).</font></font></p>     <P align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09for3.jpg" align="center" width="357" height="41"></P>     
<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> donde: i(t): Densidad de corriente en funci&#243;n del tiempo (mA/cm<FONT COLOR="#1f1a17" FACE="Bookman" SIZE="1"><SUP>2</SUP>).</FONT></FONT></P>     ]]></body>
<body><![CDATA[<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> q<SUB><FONT COLOR="#1f1a17">mon</FONT></SUB>:</FONT> <FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Carga transportada para depositar una monocapa de &#225;tomos (mC/cm<FONT COLOR="#1f1a17" FACE="Bookman" SIZE="1"><SUP>2</SUP>).&nbsp;</FONT> </FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> S(t)&nbsp;:&nbsp;Superficie ocupada por la monocapa depositada (cm<FONT COLOR="#1f1a17" FACE="Bookman" SIZE="1"><SUP>2</SUP>).&nbsp;</FONT></FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-top: 0; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> t&nbsp;:&nbsp;tiempo (s).</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Si se tiene en cuenta la interferencia entre las islas que conforman la  monocapa la superficie del substrato ocupada por los dep&#243;sitos S(t), puede  expresarse de la siguiente manera:</FONT></P>     <P align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09for4.jpg" align="center" width="362" height="25"></P>     
<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> S<FONT COLOR="#1f1a17" FACE="Bookman" SIZE="1"><SUB>ex</SUB>(t):</FONT></FONT> <FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana">Superficie ocupada por la monocapa depositada considerando que no existen  interfencias entre las islas individuales que conforman una monocapa (cm<FONT COLOR="#1f1a17" FACE="Bookman" SIZE="1"><SUP>2</SUP>).</FONT></FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> En este caso la superficie extendida puede definirse como:&nbsp; </FONT></P>     <p align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09for5.jpg" align="center"></p>     
<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> en donde:</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> b&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;:&nbsp;Factor geom&#233;trico dependiente de la forma del agregado bidimensional.&nbsp;</FONT></P>     ]]></body>
<body><![CDATA[<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-top: 0; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> v&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;:&nbsp;Velocidad de propagaci&#243;n de la monocapa sobre la superficie (cm/s).&nbsp;</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Por combinaci&#243;n de las expresiones anteriores se obtiene una ecuaci&#243;n te&#243;rica  para la corriente puesta en juego cuando se deposita una monocapa de iridio  sobre platino:&nbsp; </FONT></P>     <p align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09for6.jpg" align="center" width="372" height="48"></p>     
<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> donde:&nbsp; </FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> J:&nbsp;Velocidad de nucleaci&#243;n y crecimiento lineal de la monocapa, depende de  la afinidad entre el material depositado y el substrato (L/s).&nbsp;</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> A partir de los datos experimentales y usando un programa conocido como  Matlab 6.5&#174; se obtiene la soluci&#243;n de la ecuaci&#243;n (6), siendo esta:&nbsp; </FONT></P>     <p align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09for6.1.jpg" align="center" width="226" height="45"></p>     
<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> con una suma de errores al cuadrado de 0,966.</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Un modelo te&#243;rico adicional [10], relaciona el valor de la carga transportada  para depositar la monocapa con el espesor del dep&#243;sito:</FONT></P>     <p align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09for7.jpg" align="center" width="374" height="41"></p>     
]]></body>
<body><![CDATA[<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> donde:&nbsp; </FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> h&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; :&nbsp;es la altura del disco (cm)&nbsp;</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-top: 0; margin-bottom: 0"> <FONT COLOR="#1f1a17" face="Verdana" size="2">r y M:&nbsp;son la densidad y el peso molecular del material depositado (g/cm<FONT COLOR="#1f1a17" FACE="Bookman" SIZE="1"><SUP>3</SUP>) y (gmol/g)</FONT></FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-top: 0; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> n&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;:&nbsp;n&#250;mero de electrones intercambiados.</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-top: 0; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> F&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;:&nbsp;constante de Faraday.</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> A partir de q<FONT COLOR="#1f1a17" FACE="Bookman" SIZE="1"><SUB>mon</SUB> y las propiedades del iridio met&#225;lico, se determina el  espesor de la monocapa resultando &#233;ste igual a 0,76 &#181;. Todos los datos  te&#243;ricos obtenidos est&#225;n en el orden de los valores aceptados para los  modelos correspondientes [9, 10].</FONT></FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> En la <a href="#fig3"> Figura 3</a> se muestra la representaci&#243;n gr&#225;fica de los datos experimentales  y los te&#243;ricos, evidenci&#225;ndose la concordancia entre los datos experimentales  y los te&#243;ricos.</FONT></P>     <P align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><a name="fig3"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09fig3.jpg" align="center" width="381" height="256"></a></P>     
<p ALIGN="center"><font face="Verdana" size="2"><font COLOR="#231f20"><b>Figura 3.</b> Transitorios experimental y teórico</font> <font COLOR="#231f20">para el crecimiento de una monocapa de iridio</font> <font COLOR="#231f20">metálico sobr</font></font><font FACE="Bookman-Light" SIZE="1" COLOR="#231f20">e platino.</p> </font>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> En la <a href="#fig4"> Figura 4</a> se aprecia el efecto del tiempo sobre la fracci&#243;n de cobertura  (Fc=&#181;m<FONT COLOR="#1f1a17"><SUP>2</SUP><SUB>deposito</SUB>/ &#181;m<SUP>2</SUP><SUB>superficie</SUB>) de iridio met&#225;lico sobre platino, de esta  representaci&#243;n gr&#225;fica se puede determinar que la velocidad de deposici&#243;n  disminuye con el tiempo puesto que durante los primeros 2000s la velocidad  media de aumento en la fracci&#243;n de cobertura de los dep&#243;sitos es de 5,6&#215;10<SUP>&#150;6</SUP>  s<SUP>&#150;1</SUP> en comparaci&#243;n con los 2,2&#215;10<SUP>&#150;6</SUP> s<SUP>&#150;1</SUP> correspondientes a los &#250;ltimos  25000 s. La raz&#243;n aparente es el agotamiento del iridio disuelto y la disminuci&#243;n  de la temperatura en la soluci&#243;n electrol&#237;tica, de manera que los mejores  rendimientos se obtienen cuando los tiempos de deposici&#243;n no exceden a  los 5000s. Las caracter&#237;sticas intr&#237;nsecas del sistema, motivan a que una  determinaci&#243;n electroqu&#237;mica de cantidad de materia depositada o de fracci&#243;n  del electrodo afectada sea dif&#237;cil, debido a que el platino en un electrolito  exento de iones iridio posee su propia respuesta de corriente. Las se&#241;ales  de corriente t&#237;picas en este caso provienen de la electrolisis del agua  y la oxidaci&#243;n-reducci&#243;n de los cloruros, adem&#225;s es ampliamente conocido  que la intensidad de las mismas se ve seriamente afectada por variaciones  superficiales en el substrato, de manera que la contribuci&#243;n de corriente  obtenida en principio cuando los iones iridio no est&#225;n presentes, no son  necesariamente coincidentes con el aporte real del medio cuando la electrodeposici&#243;n  est&#225; ocurriendo.</FONT></FONT></P>     ]]></body>
<body><![CDATA[<P align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><a name="fig4"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09fig4.jpg" align="center" width="553" height="193"></a></P>     
<p ALIGN="center"><font face="Verdana" size="2"><font COLOR="#231f20"><b>Figura 4.</b> Efecto del tiempo de deposición potenciostática sobre la fracción de cobertura (Fc) de iridio</font> <font COLOR="#231f20">metálico sobre platino.</font></font></p>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><font size="2"><B><FONT COLOR="#1f1a17" face="Verdana">Electrooxidaci&#243;n de Ir a IrO</FONT></B><FONT COLOR="#1f1a17" face="Verdana"><FONT COLOR="#1f1a17" FACE="Bookman" SIZE="1"><SUB><B>2 </B></SUB><B>&#150; Ir</B><SUB><B>2</B></SUB><B>O</B><SUB><B>3</B></SUB></FONT><B> <FONT COLOR="#1f1a17"> hidratados</FONT></B></FONT></font></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> El posterior tratamiento c&#237;clico del electrodo va transformando el iridio  depositado en &#243;xido de iridio. Se obtienen tambi&#233;n dep&#243;sitos adicionales  a partir del iridio presente en la soluci&#243;n. Los cambios superficiales  se muestran en la secuencia de la <a href="#fig5"> Figura 5</a>. Es importante destacar que  el material depositado que no es apreciado con el microscopio y el de menor  tama&#241;o r&#225;pidamente se transforma en &#243;xido de iridio de apariencia translucida  y a medida que aumenta el n&#250;mero de ciclos la fracci&#243;n de cobertura aumenta  y la cantidad de &#243;xidos verdes se incrementa, este fen&#243;meno se aprecia  claramente en la <a href="#fig5"> Figura 5</a>. El analizador de im&#225;genes empleado contabiliza  los dep&#243;sitos oscuros y trasl&#250;cidos, aportando informaci&#243;n de los cambios  superficiales que tienen lugar en el electrodo en el orden de &#181;m.</FONT></P>     <P align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><a name="fig5"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09fig5.jpg" align="center" width="544" height="422"></a></P>     
<p ALIGN="center"><font color="#231f20" face="Verdana" size="2"><b>Figura 5.</b> Seguimiento microscópico de la transformación superficial del electrodo de platino.a. Iridio metálico depositado (observados gris oscuro y negro). b. c. y d. Óxidos de iridio después de12, 24, y 72 ciclos a 40 mV/s respectivamente (observados verdes y transparentes). Imágenes a 200X.</font></p>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Con la finalidad de realizar un an&#225;lisis m&#225;s exhaustivo, la escala de corriente  de la <a href="#fig6"> Figura 6</a> (oxidaci&#243;n del iridio depositado) fue manipulada y de all&#237;  se obtuvo la <a href="#fig7"> Figura 7</a>. Las transformaciones electr&#243;dicas que ocurren durante  la segunda etapa del proceso, cuando el electrodo con iridio met&#225;lico depositado  es sometido a una serie de ciclos entre 1425 mV y &#150;250 mV (representado  por el ciclo N&#186; 5 en la <a href="#fig7"> Figura 7</a>) en la misma soluci&#243;n de la primera etapa,  pueden ser descritas de la siguiente manera:</FONT></P>     <P align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><a name="fig6"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09fig6.jpg" align="center" width="328" height="309"></a></P>     
<p ALIGN="center"><font face="Verdana" size="2"><font COLOR="#231f20"><b>Figura 6.</b> Voltametría cíclica del electrodo</font> <font COLOR="#231f20">modificado de platino con iridio metálico en</font> <font COLOR="#231f20">una solución 0,2mmol/L KCl + 0,1 mmol/L</font> <font COLOR="#231f20">HCl saturada con IrCl3. = 40 mV/s.</font> <font COLOR="#231f20">Número de ciclos: 50.</font></font></p>     <p ALIGN="center"><a name="fig7"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09fig7.jpg" align="center" width="325" height="293"></a></p>     
]]></body>
<body><![CDATA[<p ALIGN="center"><font face="Verdana" size="2"><font COLOR="#231f20"><b>Figura 7.</b> Cambio en la escala de corriente</font> <font COLOR="#231f20">que permite apreciar las regiones de oxidación</font> <font COLOR="#231f20">y reducción presentes durante el crecimiento</font> <font COLOR="#231f20">de los óxidos de iridio. Fuente: <a href="#fig6">Figura 6</a>.</font></font></p>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 1.&nbsp;Reducci&#243;n del iridio en soluci&#243;n a iridio met&#225;lico seg&#250;n la ecuaci&#243;n (1).  A potenciales menores a &#150;100 mV (vs Ag/AgCl) esta reacci&#243;n compite con  la adsorci&#243;n y evoluci&#243;n del hidr&#243;geno, siendo esta &#250;ltima la predominante,  una se&#241;al distintiva para este intercambio electr&#243;dico no es apreciada  (regi&#243;n R1).</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 2.&nbsp;Oxidaci&#243;n del iridio met&#225;lico a tri&#243;xido de iridio (Ir<FONT COLOR="#1f1a17"><SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>), ecuaci&#243;n (8).</FONT></FONT></P>     <P align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> &nbsp;&nbsp;<img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09for8.jpg" align="center" width="284" height="30"></FONT></P>     
<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> A potenciales entre &#150;100 y 100 mV (vs Ag/AgCl), de igual manera, los cambios  en las zonas correspondientes al hidr&#243;geno se solapan con las se&#241;ales originadas  por las transformaciones del iridio, aunque en este caso se aprecia un  aumento en la se&#241;al de corriente, respecto a la zona de la doble capa (regi&#243;n  O1).&nbsp; </FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 3.&nbsp;A potenciales cercanos a 600 mV (vs Ag/AgCl), tiene lugar la oxidaci&#243;n  del tri&#243;xido de iridio a di&#243;xido de iridio (IrO<FONT COLOR="#1f1a17"><SUB>2</SUB>), regi&#243;n O2, ecuaci&#243;n  (9).</FONT></FONT></P>     <p align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09for9.jpg" align="center" width="328" height="34"></p>     
<P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 4.&nbsp;Las transformaciones del ox&#237;geno acompa&#241;adas de las de los cloruros se  presentan a partir de 1000 mV, regi&#243;n O3 y R3.</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 5.&nbsp;La reducci&#243;n del IrO<FONT COLOR="#1f1a17"><SUB>2</SUB> a Ir<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> sucede cerca de los 300 mV (R2).</FONT></FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Esta &#250;ltima reacci&#243;n es la responsable del crecimiento de los dep&#243;sitos.  Se piensa que gran parte del iridio depositado inicialmente se transforma  de manera irreversible en sus &#243;xidos [6]. Tal aseveraci&#243;n se basa en que  de prevalecer el iridio met&#225;lico, la reacci&#243;n de la adsorci&#243;n-desorci&#243;n  del hidr&#243;geno no se ver&#237;a mayormente opacada [3]. Por otro lado, la se&#241;al  correspondiente al ciclo N&#176; 50 en el voltamperograma parece demostrar el  poder electrocatal&#237;tico para la reacci&#243;n del ox&#237;geno[11-13], debido a que  la se&#241;al correspondiente a la reducci&#243;n del ox&#237;geno se ve incrementada  y por otro lado las corrientes de oxidaci&#243;n adjudicadas a la transformaci&#243;n  de &#243;xidos de iridio (III) a &#243;xidos de iridio (IV) se ven notoriamente disminuidas,  es m&#225;s, como el material no ha sufrido reducci&#243;n, se reduce a medida que  el electrodo es polarizado positivamente (<a href="#fig7">Figura&nbsp;7</a>) Experiencias anteriores  demuestran que el comportamiento del iridio en medio &#225;cido es similar al  del platino [3]. En la <a href="#fig8"> Figura 8</a> se muestra la fracci&#243;n promedio de cobertura  del &#243;xido en funci&#243;n del n&#250;mero de ciclos. Independientemente de la cantidad  inicial de iridio depositada, el n&#250;mero &#243;ptimo de ciclos para el proceso  es 45.</FONT></P>     ]]></body>
<body><![CDATA[<P align="center" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><a name="fig8"><img border="0" src="/img/fbpe/rtfiuz/v31n1/art09fig8.jpg" align="center" width="500" height="184"></a></P>     
<p ALIGN="center"><font face="Verdana" size="2"><b><font COLOR="#231f20">Figura 8. </font></b><font COLOR="#231f20">Fracción de cobertura de óxidos de iridio sobre una placa de platino como función</font> <font COLOR="#231f20">del número de ciclos aplicados y de la cantidad inicial de iridio depositado.</font></font></p>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><B><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana">Conclusiones&nbsp; </FONT></B> </P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Una nueva forma de modificar la superficie de platino con peque&#241;as cantidades  de &#243;xido de iridio se consigue satisfactoriamente y de manera controlada  usando un procedimiento de dos etapas: una primera en la cual el iridio  met&#225;lico es depositado y una segunda consistente en la oxidaci&#243;n de los  dep&#243;sitos mediante polarizaciones c&#237;clicas. Durante esta segunda etapa,  se consiguen dep&#243;sitos adicionales de &#243;xidos de iridio a partir del iridio  disuelto en el electrolito.</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Experimentalmente se determin&#243; que la deposici&#243;n de iridio met&#225;lico realizada  potenciost&#225;ticamente aumenta gradualmente con el tiempo de deposici&#243;n,  la velocidad de crecimiento del iridio sobre el electrodo comienza a disminuir  a partir de los 5000 s.</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> De un ensayo cronoamperom&#233;trico se tiene que el crecimiento del iridio  sobre la superficie de platino obedece a un mecanismo de nucleaci&#243;n progresiva  y se caracteriza por la formaci&#243;n de capas sobre capas. Por otro lado,  se consigue plantear un conjunto de ecuaciones te&#243;ricas que permiten modelar  matem&#225;ticamente de manera exitosa el crecimiento de la primera monocapa  de iridio met&#225;lico.</FONT></P>     <p style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0" align="justify"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> La electroxidaci&#243;n del iridio depositado fue monitoreada considerando la  variaci&#243;n de la fracci&#243;n de cobertura en el orden de los &#181;m (Fc) con el  n&#250;mero de ciclos aplicados al electrodo, de esta experiencia se encontr&#243;  que independientemente de la cantidad de iridio presente inicialmente,  la m&#225;xima cobertura se alcanza cuando el n&#250;mero de ciclos aplicados es  aproximadamente 45.</FONT></p>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> El resultado del electrocrecimiento sobre el platino consiste en una mezcla  de &#243;xidos de iridio (III) y (IV) en estado hidratado y durante el proceso  de polarizaci&#243;n c&#237;clica se aprecia el poder electrocatal&#237;tico para la transformaci&#243;n  del ox&#237;geno liberado de la electr&#243;lisis del agua.</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Con los datos experimentales obtenidos y para el rango de estudio, pueden  prepararse electrodos de platino modificados con distintas cantidades de  &#243;xidos de iridio.</FONT></P>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"> <B><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Agradecimiento&nbsp; </FONT></B> </P> <UL>     ]]></body>
<body><![CDATA[<LI>       <p style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0" align="justify"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Al CDCHT-ULA, por el apoyo para la investigaci&#243;n (proyecto I-723-01-08-C).</FONT></LI>     <LI>       <p style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0" align="justify"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Al Laboratorio de Electroqu&#237;mica de la Facultad de Ciencias de la ULA.</FONT></LI>     <LI>       <p style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0" align="justify"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Al Departamento de Qu&#237;mica Industrial y Aplicada de Escuela de Ingenier&#237;a  Qu&#237;mica de la ULA.</FONT></LI>     <LI>       <p style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0" align="justify"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Al Laboratorio de Metalograf&#237;a de la Escuela de Ingenier&#237;a Mec&#225;nica de  la ULA.</FONT></LI>     </UL>     <P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"> <B><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> Referencias Bibliogr&#225;ficas&nbsp; </FONT></B> </P>     ]]></body>
<body><![CDATA[<!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 1.&nbsp;Mac Namara, E. L.: &#147;The Electrodeposition of Iridium&#148;. J. Electrochem.  Soc, Vol. 106, N&#186; 1 (1962) 61-63.&nbsp;</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353338&pid=S0254-0770200800010000900001&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 2.&nbsp;Aliua L. y Podlovchenco B.I.: &#147;&#201;lektrokhimiya&#148;. Vol. 9 N&#186; 8 (1973) 1215-1219.&nbsp;</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353339&pid=S0254-0770200800010000900002&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 3.&nbsp;</FONT><font color="#1f1a17" face="Verdana" size="2">Cukman Dunja y Vukovi&#233; Marijan.: &#147;J. Electroanalytical Chem&#148;: 279 (1990)  283-290.&nbsp;</font>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353340&pid=S0254-0770200800010000900003&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 4.&nbsp;Pickup Peter G. y Birss V.I.: &#147;J. Electroanalytical Chem.&#148; 220 (1987) 83-100.&nbsp;</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353341&pid=S0254-0770200800010000900004&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 5.&nbsp;Baur John E. y Spaine Thomas W.: &#147;J. Electroanalytical Chem.&#148; 443 (1998)  208-216.&nbsp;</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353342&pid=S0254-0770200800010000900005&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 6.&nbsp;Burke L.D. y Whelan D.P.: &#147;J. Electroanalytical Chem.&#148; 162 (1984) 121-161.&nbsp;</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353343&pid=S0254-0770200800010000900006&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 7.&nbsp;Silva T.M., Sim&#245;es A.M.P., Ferreira M.G.S., Walls M. y Da Cunha Belo M.  &#147;J. Electroanalytical Chem.&#148; 441(1998) 5-12.&nbsp;</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353344&pid=S0254-0770200800010000900007&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 8.&nbsp;Cox James A., Gadd Steven E.y Das Basudev K.: &#147;J. Electroanalytical Chem.&#148;  256 (1988) 199-205.&nbsp;</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353345&pid=S0254-0770200800010000900008&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 9.&nbsp;Budevsky E., Staikov G. y W. J. Lornz. &#147;Electrochemical Phase Foramtion  and Growth&#148;. VCH, Federal Republic of Germany, 1996. p.p. 227-233.&nbsp;</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353346&pid=S0254-0770200800010000900009&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 10.&nbsp;McDonald D.: &#147;Transient Techniques in Electrochemistry&#148; Plenum press, 1977.  p.p. 277-280.&nbsp;</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353347&pid=S0254-0770200800010000900010&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 11.&nbsp;Chang Chia-Chin y When Ten-Chin: &#147;J. Electrochem. Soc.&#148; Vol. 143, N&#186; 5  (1996) 1485-1491.&nbsp;</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353348&pid=S0254-0770200800010000900011&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 12.&nbsp;Li Y. J., Chang C. C. y Wen T. C.: &#147;J. Appl. Electrochem.&#148; (1997) 227-234.&nbsp;</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353349&pid=S0254-0770200800010000900012&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><P align="justify" style="word-spacing: 0; line-height: 100%; margin-bottom: 0"><FONT COLOR="#1f1a17" size="2" face="Verdana"> 13.&nbsp;Ioroi Tsutomu, Kitazawa Naohisa, Yamamoto Yoshifumi y Takenaka Hiroyasu.:  &#147;J. Electrochem. Soc.&#148; Vol.147, N&#186; 6, (2000) 2018-2022.</FONT>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=2353350&pid=S0254-0770200800010000900013&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --> ]]></body>
<back>
<ref-list>
<ref id="B1">
<label>1</label><nlm-citation citation-type="journal">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Mac Namara]]></surname>
<given-names><![CDATA[E. L]]></given-names>
</name>
</person-group>
<article-title xml:lang="en"><![CDATA[“The Electrodeposition of Iridium”]]></article-title>
<source><![CDATA[J. Electrochem. Soc]]></source>
<year>1962</year>
<volume>106</volume>
<numero>1</numero>
<issue>1</issue>
<page-range>61-63</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B2">
<label>2</label><nlm-citation citation-type="">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Aliua]]></surname>
<given-names><![CDATA[L]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Podlovchenco]]></surname>
<given-names><![CDATA[B.I]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[]]></source>
<year>1973</year>
<volume>9</volume>
<page-range>1215-1219</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B3">
<label>3</label><nlm-citation citation-type="">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Cukman]]></surname>
<given-names><![CDATA[Dunja]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Vukovié]]></surname>
<given-names><![CDATA[Marijan]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[]]></source>
<year>1990</year>
<volume>279</volume>
<page-range>283-290</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B4">
<label>4</label><nlm-citation citation-type="">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Pickup Peter]]></surname>
<given-names><![CDATA[G]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Birss]]></surname>
<given-names><![CDATA[V.I]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[]]></source>
<year>1987</year>
<volume>220</volume>
<page-range>83-100</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B5">
<label>5</label><nlm-citation citation-type="">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Baur John]]></surname>
<given-names><![CDATA[E]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Spaine Thomas]]></surname>
<given-names><![CDATA[W]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[]]></source>
<year>1998</year>
<volume>443</volume>
<page-range>208-216</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B6">
<label>6</label><nlm-citation citation-type="">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Burke]]></surname>
<given-names><![CDATA[L.D]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Whelan]]></surname>
<given-names><![CDATA[D.P]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[“J. Electroanalytical Chem.”]]></source>
<year>1984</year>
<volume>162</volume>
<page-range>121-161</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B7">
<label>7</label><nlm-citation citation-type="">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Silva]]></surname>
<given-names><![CDATA[T.M]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Simões]]></surname>
<given-names><![CDATA[A.M.P]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Ferreira]]></surname>
<given-names><![CDATA[M.G.S]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Walls]]></surname>
<given-names><![CDATA[M]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Da Cunha Belo]]></surname>
<given-names><![CDATA[M]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[]]></source>
<year>1998</year>
<volume>441</volume>
<page-range>5-12</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B8">
<label>8</label><nlm-citation citation-type="">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Cox James]]></surname>
<given-names><![CDATA[A]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Gadd Steven]]></surname>
<given-names><![CDATA[E]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Das Basudev]]></surname>
<given-names><![CDATA[K]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[“J. Electroanalytical Chem.”]]></source>
<year>1988</year>
<volume>256</volume>
<page-range>199-205</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B9">
<label>9</label><nlm-citation citation-type="book">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Budevsky]]></surname>
<given-names><![CDATA[E]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Staikov]]></surname>
<given-names><![CDATA[G]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Lornz]]></surname>
<given-names><![CDATA[W. J]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[“Electrochemical Phase Foramtion and Growth”]]></source>
<year>1996</year>
<page-range>227-233</page-range><publisher-name><![CDATA[VCH, Federal Republic of Germany]]></publisher-name>
</nlm-citation>
</ref>
<ref id="B10">
<label>10</label><nlm-citation citation-type="book">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[McDonald]]></surname>
<given-names><![CDATA[D]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[“Transient Techniques in Electrochemistry”]]></source>
<year>1977</year>
<page-range>277-280</page-range><publisher-name><![CDATA[Plenum press]]></publisher-name>
</nlm-citation>
</ref>
<ref id="B11">
<label>11</label><nlm-citation citation-type="">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Chang]]></surname>
<given-names><![CDATA[Chia-Chin]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[When]]></surname>
<given-names><![CDATA[Ten-Chin]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[]]></source>
<year>1996</year>
<volume>143</volume>
<page-range>1485-1491</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B12">
<label>12</label><nlm-citation citation-type="">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Li Y]]></surname>
<given-names><![CDATA[J]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Chang C]]></surname>
<given-names><![CDATA[C]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Wen T]]></surname>
<given-names><![CDATA[C]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[]]></source>
<year>1997</year>
<page-range>227-234</page-range></nlm-citation>
</ref>
<ref id="B13">
<label>13</label><nlm-citation citation-type="">
<person-group person-group-type="author">
<name>
<surname><![CDATA[Ioroi]]></surname>
<given-names><![CDATA[Tsutomu]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Kitazawa]]></surname>
<given-names><![CDATA[Naohisa]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Yamamoto]]></surname>
<given-names><![CDATA[Yoshifumi]]></given-names>
</name>
<name>
<surname><![CDATA[Takenaka]]></surname>
<given-names><![CDATA[Hiroyasu]]></given-names>
</name>
</person-group>
<source><![CDATA[]]></source>
<year>2000</year>
<volume>147</volume>
<page-range>2018-2022</page-range></nlm-citation>
</ref>
</ref-list>
</back>
</article>
