Abstract

ARAGON M, Juan  and  CAMUS A, Juan. Efecto de la concentracion de ion cloruro en la estructura de electrodepositos de cobre. Rev. LatinAm. Metal. Mater. [online]. 2011, vol.31, n.2, pp.128-133. ISSN 0255-6952.

El análisis metalográfico de los depósitos de cobre obtenidos en soluciones ácidas de sulfato de cobre, cuando se cambia la concentración del cloruro, entre 20-50 mg/L, permite corroborar que el depósito de grano grueso de tipo “cristales que reproducen la base” (RB) inicial, empieza a afinarse pasando a un crecimiento de textura orientada en el campo de tipo FT a una estructura en forma de polvo o estructuras dispersas sin orientación, de tipo UD. Sobre los 50 mg/L de cloruro se produce el efecto contrario, el tamaño de grano empieza a aumentar. Además, al adicionar guar entre 15 y 30 mg/L, se observa que con 30 g/L de cloruro, mejora la calidad del depósito, la que se optimiza al aumentar la densidad de corriente hasta 290 A/m² y la temperatura hasta 55ºC

Keywords : Cobre; electrocristalización; cloruro; guar.