Abstract

OROZCO HERNANDEZ, Giovany  and  OLAYA FLOREZ, Jhon Jairo. Propiedades estructurales y morfologicas de peliculas delgadas de Bi(X)Si(Y)O(Z) producidas por la técnica de unbalanced magnetron sputtering. Rev. LatinAm. Metal. Mater. [online]. 2015, vol.35, n.2, pp.237-241. ISSN 0255-6952.

Se produjeron películas delgadas de bismuto-silicio-oxigeno por medio de un sistema de deposición física de vapores asistido por plasma y con un magnetrón desbalanceado (UBM por sus siglas en inglés) con atmósfera reactiva de argón y oxígeno, y a temperatura ambiente. Las películas mostraron alta homogeneidad y espesor constante de aproximadamente 200 nm. Las propiedades estructurales de las películas fueron analizadas mediante difracción de rayos X en donde se evidencia la alta presencia de bismuto y óxido de bismuto. En cuanto a lo que tiene que ver con las propiedades morfológicas se hicieron medidas de microscopía con-focal donde se evidencia la buena homogeneidad de las películas sobre la superficie y la baja rugosidad promedio que a su vez indica buena uniformidad del espesor.

Keywords : Bismuto-silicio-oxígeno; UBM; difracción de rayos X; películas delgadas.

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